当前位置: > 首页 >  > 项目频道 >  > 专利招商

无掩模纳米光刻机


来源:本站   发布时间:2011-07-11

项目简介:

1) 克服了诸多技术难题,掌握了纳米光刻机系统的关键技术,成功地研制了一台拥有全部自主知识产权性样机,共申请国家专利10项,国际PCT专利意项。

2)提供了一种既可以制备掩模又可以直写的全自动控制的激光光刻机,具有设备简单、技术环境要求不高、超高加工分辨率(100纳米以下)、性价比高等特点,既适用于实验室科学研究,又可用于微电子和半导体工业生产,有很强的应用前景。

3)本研究中的受体材料涉及金属、有机材料、半导体材料,可直接制作导体、半导体和绝缘体的纳米构造。

4)无掩膜光刻技术涉及材料、材料与光的作用、涉及激光技术、光电技术,涉及微位移技术、自动控制等诸多领域,是一个多学科交叉的产物。

市场预测:

无淹没纳米光刻机一种新型的纳米加工技术手段,在微纳加工领域及纳米器件前沿研究领域有很大的发展前景和许多重要应用,具体如下:

? 可以制备低价掩模, 约为E-Beam的1/1000

? 可直接在导体、半导体、绝缘体上刻制任意纳米结构,用于半导体、微电子、传感器的纳米结构。

? 可用于纳米尺度图像存储,防伪等领域

? 可制作高质量的灰度掩模,进而获得立体浮雕纳米构造,微光学元件,

? 是推动下一代全干大规模集成电路制造的一个有机组成部分。

知识产权及获奖情况:

该项目拥有国家发明专利。

合作方式:

面议